微纳加工
一、为什么会有气泡
阳极键合(Anodic Bonding)靠 300–450℃ + 0.5–1.5 kV 直流电场让 Na⁺ 迁移形成 SiO₂ 界面层。任何破坏"界面紧密接触+离子迁移通道"的因素都会留下未接合区,降温后呈现圆形/条形气泡。
二、四轴排查(从最高频到低频)
表面态:Si 片 Ra>50nm、有颗粒(>0.5μm 即隔离)、有机残留(光刻胶清洗不净最常见)→ 键合前 RCA+HF dip 60s,颗粒计数<5颗/片
温度曲线:升温段未到 300℃ 就加电压 → 局部离子未活化;降温段未等电流衰减到<1μA 就断电 → 界面应力锁气泡。正确做法:300℃ 恒温 10min 再加压,结束电流<0.5μA 后随炉冷
电压/电场:6 寸片 1kV 对应场强约 100V/mm(玻璃厚 500μm),电压不足→迁移慢、接合不完整;过高→局部放电击穿
排气通道:封闭腔体(如压力传感器敏感膜)必须在玻璃上激光打盲孔或预留排气槽,否则腔内气体无路可走必成泡
三、6 寸 Pyrex 7740 – Si 典型窗口(中试线常见)
参数 | 区间 |
键合温度 | 320–380℃(峰值 350℃) |
电压 | 800–1200 V |
加压时间 | 15–30 min |
界面电流终点 | <0无气泡判据 0.5 μA |
片内接合率 | 真空接触下 >98% |
常见失败 | 边缘 5mm 环带未接合(吸附不平) |
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