MEMS代工

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最近，总有老师跟我说，科研的世界，真的是太难了！不过我觉得其实科研者的世界，也有不少事情挺容易的，比如：容易胖、容易闷，容易头发变稀少；容易困、容易丑，容易变成单身狗...哦对了还有就是做我们的客户，当我们的上帝，挺容易有惊喜的！原位芯片成立4年多，得到了许多科研机构以及大学老师的认可。为了助力我国科学研究，回馈新老客户，原位芯片微纳

光刻是生产半导体元件的一个关键步骤，即如何将印在光掩膜上的外形结构转移到基质的表面上。光刻工艺过程与印刷术中的平版印刷的工艺过程类似。光刻工艺主要步骤准备基底在涂布光阻剂之前，先把硅片进行处理，经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物；涂布光阻剂(photo resist)将硅片放在

MEMS代工中的刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀把硅片表面曝露于气态中产生的等离子体，等离子体通过光刻胶中开出的窗口，与硅片发生物理或化学反应（或这两种反应），从

2018年12月8-10日，第二届微流控技术应用创新论坛在国内微流控技术人员的热切期盼中在西安锦华大酒店召开，本次大会由西安交通大学承办。会议为从事生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等应用研究的学者提供广泛的多学科交叉学术交流平台，设立大会报告、邀请报告、专题报告、实验室参观等交流方式，以促进国内外知名学者互动